| 000 -CABECERA |
|---|
| Longitud fija campo de control |
00782nam a22002177a 4500 |
| 001 - NÚMERO DE CONTROL |
|---|
| Número de control |
2419 |
| 003 - IDENTIFICADOR DEL NÚMERO DE CONTROL |
|---|
| Identificador del número de control |
OSt |
| 005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN |
|---|
| Fecha y hora de la última transacción |
20161104173614.0 |
| 007 - CAMPO FIJO DE DESCRIPCIÓN FÍSICA |
|---|
| Campo fijo de descripción física |
ta |
| 008 - CÓDIGOS DE INFORMACIÓN DE LONGITUD FIJA |
|---|
| Códigos de información de longitud fija |
151110b xxu||||| |||| 00| 0 eng d |
| 041 ## - CÓDIGO DE LENGUA |
|---|
| Código de lengua del texto;banda sonora o título independiente |
eng |
| 082 ## - NÚMERO DE LA CLASIFICACIÓN DECIMAL DEWEY |
|---|
| Número de clasificación |
621.381 |
| Número de documento |
O658 |
| 100 40 - PUNTO DE ACCESO PRINCIPAL-NOMBRE DE PERSONA |
|---|
| Nombre de persona |
Coburn, J. W. |
| 9 (RLIN) |
11870 |
| 245 0# - MENCIÓN DE TÍTULO |
|---|
| Título |
Plasma etching and reactive ion etching / |
| Mención de responsabilidad, etc. |
J. W. Coburn |
| 260 ## - PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, ETC. (PIE DE IMPRENTA) |
|---|
| Lugar de publicación, distribución, etc. |
New York : |
| Nombre del editor, distribuidor, etc. |
American Institute of Physics, |
| Fecha de publicación, distribución, etc. |
1982 |
| 300 4# - DESCRIPCIÓN FÍSICA |
|---|
| Extensión |
87 p. |
| 505 ## - NOTA DE CONTENIDO CON FORMATO |
|---|
| Nota de contenido con formato |
1. Introduction 2. Apparatus, terminology and parameters 3. The reactive gas glow discharge 4. Gas-Surface chemistry 5. Glow discharge process 6. The etching of aluminum 7. Plasma diagnostics and process control 8. Apparatus considetations. |
| 650 ## - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA - TÉRMINO DE MATERIA |
|---|
| Término de materia o nombre geográfico como elemento inicial |
Semiconductors |
| 9 (RLIN) |
7680 |
| 650 ## - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA - TÉRMINO DE MATERIA |
|---|
| Término de materia o nombre geográfico como elemento inicial |
Etching |
| 9 (RLIN) |
11872 |
| 942 ## - ENTRADA DE ELEMENTOS AGREGADOS (KOHA) |
|---|
| Fuente de clasificaión o esquema |
|
| Koha [por defecto] tipo de item |
Libro OptoElectrónica |
